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半导体恒温恒湿箱使用注意事项

发布日期: 2025-07-24
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  半导体恒温恒湿箱用于模拟不同温湿度环境下的器件性能,其使用需严格遵循规范,避免因操作不当导致芯片、晶圆等精密器件损坏(损坏率可控制在 0.1% 以下)。​
  环境预处理需满足洁净要求。设备应安装在洁净室,远离粉尘源和振动源,地面振动加速度需≤0.5g。开箱前需用异丙醇擦拭外壳,内部腔体(含搁板)需经无尘布蘸 18.2MΩ・cm 超纯水清洁,避免微粒附着在半导体器件表面(微粒直径>0.5μm 会导致芯片短路)。
  参数设置需匹配器件测试标准。温度范围通常控制在 - 40℃至 150℃,升温速率≤5℃/min(避免热冲击导致芯片封装开裂),降温速率≤3℃/min(防止引线键合处产生应力)。湿度控制对 CMOS 器件尤为关键:一般测试设为 60%-70% RH,高湿可靠性测试设为 85% RH±2%,但需确保湿度波动时不产生凝露(可通过露点监测,露点温度需低于腔体内壁温度 2℃以上)。
 

半导体恒温恒湿箱

 

  样品处理与放置有严格规范。半导体器件需用防静电托盘(表面电阻 10⁶-10⁹Ω)承载,操作人员需佩戴接地手环(接地电阻 1MΩ),避免静电放电(ESD)击穿栅氧化层(氧化层厚度<10nm 时,100V 静电即可造成损坏)。放置时,芯片间距需≥5mm,避免相互遮挡影响温湿度均匀性(腔体内温差需≤±0.5℃,湿度差≤±2% RH)。对于 BGA、CSP 等底部有焊点的器件,需架空放置(距搁板 1cm),防止焊点与搁板接触导致局部温度偏差。​
  操作过程需避免环境骤变。开门时间每次不超过 10 秒,取放样品时动作轻缓,防止腔体内外空气交换引发温湿度波动(波动幅度需<3℃、<5% RH)。进行高低温循环测试时,需设置至少 5 分钟的温度稳定期(如从 - 40℃切换至 85℃后,待温度稳定再计时),确保器件充分热平衡。
  维护保养需关注精密部件。每周用激光粒子计数器检测腔体内微粒(≥0.3μm 粒子数需≤100 个 /ft³),每月校准温湿度传感器(精度需达 ±0.2℃、±1% RH),校准用标准传感器需经 CNAS 认证。加湿器的水箱需每周更换超纯水,避免矿物质沉积堵塞雾化片(堵塞会导致湿度失控)。长期停用(>1 个月)需将腔体干燥至 RH≤30%,并充入氮气(露点≤-40℃)保护,防止金属部件锈蚀污染器件。​
  安全防护不可忽视。设备需配备独立接地(接地电阻≤1Ω),与其他设备的接地系统分开,避免共模干扰影响器件测试信号。紧急停机按钮需每月测试一次,确保在腔体超温(>160℃)或漏电(>30mA)时能立即断电。操作人员需穿洁净服,禁止在设备运行时打开观察窗(观察窗玻璃温度可低至 - 40℃,接触会导致冻伤)。​
  遵循这些注意事项,半导体恒温恒湿箱可精准模拟环境应力,为器件可靠性评估提供有效数据,是半导体产业链中保障产品质量的关键设备。  
 
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